产品介绍
- 支持 150、200、300 mm 晶圆,具体尺寸配置可定制。
- 采用水平式电镀腔体,配备预浸、清洗和干燥工序;电镀腔体最多可配置 12 个,按需定制。
- 配备 2 或 3 个 Load Port、双臂晶圆搬运机械手及电磁直线模组。
- 采用工业控制一体机触屏操作,支持 SECS/GEM 通信协议和数据传输。
- 可配置铜、镍、金及锡/银相关镀层工艺。
设备配置可按需求定制,具体规格、工艺指标及测试条件欢迎垂询。

PRODUCTS & TECHNOLOGY
ECP 系列全自动晶圆水平电镀设备,适用于 TSV、Pillar、Bump、RDL 及铜镶嵌工艺,支持 150、200、300 mm 晶圆尺寸配置。
设备配置可按需求定制,具体规格、工艺指标及测试条件欢迎垂询。
铜柱、凸点、重布线层及通孔相关电镀工艺。
晶圆级封装、半导体器件制造及相关工艺开发团队。
请告诉我们基板材料、尺寸、镀层与工艺目标。我们可一对一介绍相关设备,提供更详细的 PDF 资料,沟通适用配置与技术细节。
LET’S TALK
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