产品介绍
- 支持 150、200、300 mm 晶圆尺寸,具体配置可定制。
- 采用垂直式电镀腔体及全自动双面夹具,便于维护和自动化加工。
- 配备预浸腔体,最多可配置 12 个电镀腔体,并设清洗、干燥腔体。
- 配备 2 或 3 个 Load Port、双臂晶圆搬运机械手及电磁直线模组。
- 采用工业触屏控制,支持 SECS/GEM 通信;镀层种类包括铜、镍、金、锡和银。
设备配置可按需求定制,具体规格、工艺指标及测试条件欢迎垂询。

PRODUCTS & TECHNOLOGY
ECP 系列全自动晶圆垂直电镀设备,适用于 TGV、TSV、Pillar、Bump 和 RDL 工艺,采用垂直式腔体及全自动双面夹具。
设备配置可按需求定制,具体规格、工艺指标及测试条件欢迎垂询。
晶圆金属沉积与先进封装电镀。
半导体制造与封装企业,以及电镀工艺研发团队。
请告诉我们基板材料、尺寸、镀层与工艺目标。我们可一对一介绍相关设备,提供更详细的 PDF 资料,沟通适用配置与技术细节。
LET’S TALK
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